Ученые Научно-исследовательского института точного машиностроения (НИИТМ) создали опытный образец первой в России установки для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. С ее помощью можно производить собственные микросхемы для электроники.
Как объяснили авторы проекта, до недавнего времени такие машины закупались Россией исключительно за рубежом. Отечественные установки позволят укрепить технологический суверенитет страны. Особенность разработанного в НИИТМ образца установки заключается именно в том, что она предназначена для ПХО. Осаждение является базовым процессом при производстве микросхем.
– Новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм. Это дает возможность тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах, – цитируют «Известия» начальника отдела перспективных разработок НИИТМ Георгия Ерицяна.
Разработчики в довольно короткий срок локализовали производство составных частей. При этом базовые технологические процессы, которые были созданы учеными в рамках реализации проекта, не уступают даже импортным аналогам.
